
26 czerwca 2025 r. mieliśmy przyjemność uczestniczyć w VIII Mazowieckim Sympozjum Spawalniczym, ...
Więcej…Zapraszamy na pokaz unikalnych możliwości robotów współpracujących LORCH
W dniu 12 czerwca 2025 roku na Politechnice Wrocławskiej odbyło się XI Wrocławskie Sympozjum ...
Więcej…Z przyjemnością informujemy o rozszerzeniu naszego asortymentu o AeroGuard – nowoczesny system ...
Więcej…Po intensywnym maju, kontynuowaliśmy promocję przełomowej technologii ręcznego spawania laserowego ...
Więcej…Nie ryzykuj postaw na solidny serwis i pełne bezpieczeństwo!
26 maja 2025 r. w Zespole Szkół Budowlano-Drzewnych im. Armii Krajowej w Żywcu uroczyście otwarto ...
Więcej…Zapraszamy na nową wystawę w Muzeum Podróżników im. Tony’ego Halika!
Skorzystaj z wyjątkowej oferty i zyskaj więcej w tej samej cenie! Kupując jedną z wybranych ...
Więcej…Kupuj profesjonalne tarcze MOST i wybierz 1 z 3 kompletów klocków LEGO®.
Więcej…Ostatnie wycinarki plazmowe i plazmowo-tlenowe z rocznika 2024
Więcej…Otrzymaj zieloną koszulkę polo GRATIS przy zakupie pierwszej palety drutu (960 kg w szpulach lub ...
Więcej…W drugim kwartale polecamy produkty firmy ESAB - Renegade 1PH, Rogue EM 180/EMP 210 PRO oraz ...
Więcej… Zobacz wszystkieW okazjach cenowych elektroda spawalnicza ESAB OK ...
Więcej…W okazjach cenowych chwytak podciśnieniowy AERO-CUBE AERO-LIFT ...
Więcej…W okazjach cenowych wiertarka magnetyczna ROTOFLUX 2050 ...
Więcej…W okazjach cenowych dysza plazmowa WB300125A stosowana w uchwytach plazmowych ...
Więcej…W okazjach cenowych elektroda plazmowa stosowana w uchwytach plazmowych firmy ...
Więcej…W okazjach cenowych wciągnik łańcuchowy Demag DCBS-Pro 1-125 z funkcją ...
Więcej…W okazjach cenowych permanantna płyta mocująca Neostar 350 ...
Więcej…W okazjach cenowych elektropermanantny uchwyt magnetyczny Mastermill MM50300600 ...
Więcej…W okazjach cenowych korpusy dociskowe ZP-22/30 ...
Więcej… Zobacz wszystkieProces czyszczenia i przygotowania powierzchni to kluczowy etap poprzedzający wszelkie operacje ...
Więcej…W wielu środowiskach przemysłowych pracownicy są narażeni jednocześnie na zagrożenia mechaniczne, ...
Więcej…W dzisiejszym świecie produkcji przemysłowej, precyzja i powtarzalność są kluczowymi elementami ...
Więcej…Elastyczny system mocowania DEMMELER rośnie wraz z zadaniami, jakie Państwo przed nim stawiają. ...
Więcej…Czy borykasz się z problemami wynikającymi z wykorzystania tradycyjnych materiałów ściernych ...
Więcej…W dynamicznym świecie logistyki i produkcji, pewność dostawy i ochrona produktów są kluczowe. ...
Więcej…W dzisiejszym dynamicznie rozwijającym się przemyśle, zapewnienie odpowiedniego poziomu ochrony ...
Więcej…Pracujesz z przewodami elektrycznymi i kablami, to wiesz że odpowiednie izolowanie, wiązkowanie ...
Więcej… Zobacz wszystkieModel | Klasa filtra | Przejrzystość optyczna | Odporność na uderzenia | Obszary zastosowania | Wymogi opcjonalne |
X5-SV01 | 2C-1.2 | 1 | BT | nie dotyczy | K, N |
X5-SV02 | 5-3.1 | 1 | BT | nie dotyczy | K, N |
X5-SV03 | 2C-1.2 | 1 | BT | nie dotyczy | K, N |
Klasa filtra:
5 = filtr spawalniczy, zaciemnienie 5 (E N 169)
2C-1.2 = filtr UV, zaciemnienie 1.2 (EN 170)
5-3.1 = filtr chroniący przed olśnieniem słonecznym, zaciemnienie 3.1 (EN 172)
Przejrzystość optyczna:
Dopuszczalna zmienność współczynnika załamania światła dla oczu jest oceniana podczas certyfikacji produktu. Klasa 1 to najwyższa klasa w zakresie przejrzystości optycznej.
Odporność na uderzenia:
Wszystkie osłony twarzy serii 3M™ V5 i X5-SV zapewniają ochronę przed uderzeniami cząsteczek o dużej prędkości i średniej energii, posiadają oznaczenie B (120 m/s). Dodatkowo osłony serii 3M™ X5-SV spełniają te wymagania po kondycjonowaniu w temperaturze 55°C i -5°C (oznaczenie BT).
Obszary zastosowania:
Ponadto osłony twarzy 3M™ 5E-11 i 5F-11 spełniają opcjonalne wymagania dotyczące ochrony przed rozbryzgami cieczy (oznaczenie 3).
Wymagania opcjonalne:
Seria osłon 3M™ X5- SV dodatkowo spełnia wymagania dotyczące odporności na uszkodzenia powierzchniowe przez drobne cząstki (oznaczenie K) oraz odporności na zaparowanie (oznaczenie N).